Особенности имплантации бора в кремний из плазмы bf3 в иммерсионном режиме



жүктеу 17.02 Kb.
Дата07.09.2018
өлшемі17.02 Kb.

XXX Звенигородская конференция по физике плазмы и УТС, 24 – 28 февраля 2003 г.

ОСОБЕННОСТИ ИМПЛАНТАЦИИ БОРА В КРЕМНИЙ ИЗ ПЛАЗМЫ BF3 В ИММЕРСИОННОМ РЕЖИМЕ




А.А. Орликовский, К.В. Руденко, А.В. Фадеев



Физико-технологический институт РАН, Москва, Россия, e-mail: rudenko@ftian.oivta.ru
Плазменные технологии, обеспечивающие перенос рисунка маски в ультратонкие слои, занимают до 30% всех технологических операций при изготовлении современных УБИС. По мере эволюции толщины активных слоев интегральных приборов в суб-100 нм диапазон, актуальным для микроэлектроники стало их легирование непосредственно из плазмы в режиме имплантации положительно заряженных ионов с энергией 0.5 – 5 кэВ в иммерсионном режиме [1].

Такой метод имеет существенные преимущества перед традиционной имплантацией для данного класса задач в условиях низких энергий ионов [2]. В настоящей работе рассмотрены отличия в экспериментальных профилях пространственного распределения концентрации бора (NB(x)), наблюдающиеся при плазменно-иммерсионной имплантации (ПИ3), в сравнении с имплантацией из ионных пучков.

Показано, что отклонение NB(x) от классических распределений Гаусса (Пирсона) обусловлено двумя факторами: принципиальным отсутствием масс-сепарации молекулярных ионов BF3+, BF2+, BF+ в плазме (в иммерсионном режиме), и побочным ионно-стимулированным плазмохимическим травлением поверхности кремния атомарным фтором, являющимся компонентом плазмы. Аналитические оценки влияния этих факторов хорошо совпадают с экспериментальными данными.

Предсказан возможный эффект насыщения имплантируемой дозы, ограничивающий максимальную концентрацию имплантируемой примеси в условиях конкурирующего процесса травления поверхностного слоя. Обнаружено экспериментальное подтверждение данного явления.


ЛИТЕРАТУРА

  1. Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation. /Ed by A. Andersen, N.-Y., J.Willey&Sons, 2000 г.

  2. Аверкин А.Н., Орликовский А.А., Руденко К.В. Труды 3-го Международного симпозиума по теоретической и прикладной плазмохимии. Плес, 2002 г., т. 2, с. 360 - 362.

Каталог: Zvenigorod -> XXX
XXX -> Свойства плазменных структур в электродном свч разряде пониженного давления
XXX -> Исследование российского бериллия для первой стенки итэр
XXX -> Пробой и разряд в газе низкого давления, создаваемый микроволновым излучением со стохастически прыгающей фазой
XXX -> Использование стохастических механизмов для создания высокоэффективного микроволнового разряда в источниках излучения с квазисолнечным спектром
XXX -> Борис борисович кадомцев
XXX -> Диагностический комплекс электронно-циклотронного излучения на токамаке т-10
XXX -> Применение эци для исследования характеристик крупномасштабных колебаний плазмы на токамаке т-10
XXX -> О перспективах ударного термояда
XXX -> Вириальные коэффициенты для термодинамических систем с псевдопотенциалом хилла
XXX -> Процессы на поверхности катода сильноточной дуги и самосогласованные вольт- амперные характеристики прикатодного слоя


Достарыңызбен бөлісу:


©kzref.org 2019
әкімшілігінің қараңыз

    Басты бет